Precisione Estrema, Ingombri Minimi

Tra le principali sfide delle moderne applicazioni di posizionamento high-tech figurano un posizionamento stabile nel lungo periodo, movimenti riproducibili su scala nanometrica, design compatto e una configurazione flessibile per l’integrazione in spazi ristretti. Anche una deviazione minima può compromettere la funzionalità. Per questo, i requisiti in termini di risoluzione, stabilità e capacità di integrazione sono elevati. L'asse lineare miniaturizzato B-421 BIX è stato sviluppato per soddisfare in modo affidabile queste esigenze tecniche.

Perché sceglierli?
 

• Precisione eccezionale: Minimo incremento di movimento 10 nm
• Stabilità: Meccanismo autobloccante per garantire la stabilità del posizionamento nel tempo
• Resilienza: Carico utile e forza di azionamento elevati
• Salvaspazio e versatile: Compatto e impilabile per adattarsi facilmente a configurazioni multi-asse
• Posizionamento preciso: Alta risoluzione e riproducibilità

Parla con noi delle tue specifiche esigenze!

Nei sistemi moderni ad alta precisione, la stabilità nel posizionamento dei componenti ottici, spesso su scala nanometrica, è un fattore cruciale per ottenere risultati affidabili. Il controllo di un fascio ottico richiede soluzioni che possano garantire il posizionamento stabile nel tempo di specchi, diaframmi e lenti, oltre a un allineamento con precisione nanometrica, per un orientamento del fascio preciso e ripetibile. La richiesta di sistemi di posizionamento compatti, in grado di effettuare movimenti con precisione nanometrica e facilmente integrabili in design multiasse, è in crescita. Si tratta di un’esigenza particolarmente sentita ai fini della qualità del fascio nel settore dei semiconduttori, ad esempio per la metrologia dell'overlay e in applicazioni di microscopia a super-risoluzione, quali i metodi TIRF e STED.